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    小線寬紫外曝光及配套工藝

      紫外光刻主要用于微米及亞微米級尺寸的光刻,與刻蝕或金屬薄膜工藝結合,可將圖形轉移至其他材料上。平臺的紫外光刻主要與其他工藝配合提供服務,保證圖形的一致性和均勻性。
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